1、蒸發鍍膜（mó）設（shè）備與技術 真空（kōng）蒸發鍍膜設備（bèi）主要（yào）用於在經予處理的塑料、陶（táo）瓷（cí）等製品表麵蒸鍍金屬薄（báo）膜（鍍鋁（lǚ）、鉻、錫、不鏽鋼（gāng）等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、價廉的（de）塑料,陶（táo）瓷表（biǎo）麵金屬（shǔ）化製品。廣泛應用於工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋（xié）後（hòu）跟等領域, JTPZ多功能鍍膜技術及設備（加有射頻等離子體聚合的蒸發鍍（dù）膜機），針對（duì）汽車、摩托車（chē）燈（dēng）具而設計（jì）的，在一個真空室內完成蒸發鍍鋁和（hé）射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜後燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用於（yú）光學產品（pǐn）、磁記錄介質（zhì）、軍事（shì）國防保護膜；防潮增透膜；防鏽抗腐蝕；耐磨增硬（yìng）膜。 用戶選擇在燈具基體上噴底漆、鍍鋁膜、鍍（dù）保護膜或燈具基體在（zài）真空室（shì）進行前（qián）處理（不噴底漆）、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。

  2、真空鍍（dù）加工的等離子擴滲（shèn）鍍膜設備及技術；離子（zǐ）滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元（yuán）素滲入到零件和模具內部、明（míng）顯提高表麵（miàn）硬度、抗（kàng）疲勞等性能和耐腐蝕性，相對於總體滲氮處理時（shí）間短、濕度低、變形小、表麵性能可控，可用於各種鋼鐵及（jí）鈦合金結構件，各種模具（jù）和各種不鏽鋼製品。 等離子體化（huà）學氣相沉積設備與技術(離子滲氮（dàn），氮碳共滲) 等離子體化（huà）學氣相沉積（jī）（PCVD）是一種新型（xíng）的脈衝直流等離子體輔助沉積硬質鍍膜新技術。在（zài）一定壓力（lì）、溫度的真空爐內（nèi），加（jiā）入適當（dāng）比例的不同工作（zuò）氣體，在脈衝電壓的作用下，通過輝光放電產生均勻等（děng）離子體。在不同工（gōng）藝條（tiáo）件下，可在被處（chù）理工件表麵形成各種硬質膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層複合膜等，顯微硬度（dù）高達HV2000--2500。與CVD和PVD相比，PCVD技術可實現離子滲氮、滲碳和鍍膜在同一爐內依次進行，高（gāo）效率（lǜ）地實現滲透複合工藝。該設備適用於要求提高表麵耐磨損、耐腐蝕、抗高溫氧化、抗疲勞的零部件和工模具。被（bèi）處理材料主要包括：高速鋼、冷熱鋼、冷熱模具（jù）鋼、結構鋼、不鏽鋼、鈦合金、硬（yìng）質合金等